仪器名称: 自动感应耦合等离子体刻蚀机
| 仪器编号: 15019660 |
| 仪器型号: ICP-5000 |
| 购置日期: 2015-11-18 |
| 单价(万元): 80.00 |
| 厂家: 北京金盛微纳科技有限公司 |
| 技术指标: 1. 极限真空: 刻蚀室9.0×10-5 Pa (室内湿度≤55%) 进样取样室6.0×10-1 Pa 2. 刻蚀材料: 主要GaN、Sapphire材料，其它Poly-Si、Si、SiO2、Si3N4等 3. 刻蚀速率: 0.01~ 2μ/min（据不同材料与工艺而定） 4. 刻蚀均匀性: ≤±5％(φ150mm范围内) 5. 电极尺寸: φ200mm |
| 仪器介绍: |
| 存放位置：显示中心101室 |
| 保管单位：集成电路学院 |
| 管理负责人：吴忠 |
| 共享: 预约仪器 |
| 预约须知: |
| 收费参考标准: |
| 主要功能: 离子体刻蚀 |
| 仪器设备开放时间: 详情请查看仪器预约表 |