仪器名称: 磁控溅射台
| 仪器编号: 11010110 |
| 仪器型号: JS3S-80Z |
| 购置日期: 2011-09-01 |
| 单价(万元): 32.00 |
| 厂家: 320000.00 |
| 技术指标: 真空系统 进样室：机械泵系统；刻蚀室：分子泵机组 溅射靶规格 ?80mm、?100mm、?150mm可选 样品台 可旋转、可定位、转速连续可调 溅射不均匀性 ≤ ±5% 溅射工位 6工位 溅射方式 定靶溅射，旋转溅射。 溅射形式 多靶系列可实现单一靶材溅射，复合靶材溅射，两种材料交替溅射。 自动化程度 真空系统、下游压力闭环控制、射频电源、气体流量、工艺过程全自动化控制。 人机界面 Windows环境、触摸屏操作 操作方式 全自动方式、非全自动方式 自动化装置的选配 可选择进口件或国产件 取/送样片方式 机械手自动取/送样片 |
| 仪器介绍: |
| 存放位置：显示中心103室 |
| 保管单位：电子科学与工程学院 |
| 管理负责人：陈静 |
| 共享: 不可用 |
| 预约须知: 有问题电话联系陈静老师：18914719824 |
| 收费参考标准: |
| 主要功能: 半导体器件,集成电路,微机械,微光学,光电子等领域的研究，可在硅片、塑料、陶瓷、玻璃、石英、Ⅲ-Ⅴ族化合物及金属等材料表面镀制AI、Au、Cr、Ti、Ni、Cu、W、SiO2、各种金属、非金属，单层、多层膜。 |