仪器编号: 20096167 |
仪器型号: 无 |
购置日期: 2009-03-01 |
单价(万元): 47.80 |
厂家: |
技术指标: 极限压力:6.610-5Pa,恢复真空时间:40分钟可达6.610-4Pa,水冷靶台:靶材尺寸7070mm,引出栅直径:ϕ30mm,离子束能量:0.4~2.0Kev,离子流密度:1~5mA/cm2,最大束流:60mA,工作真空度:210-2 Pa~210-6 Pa |
仪器介绍: |
存放位置:显示技术研究中心西2楼 |
保管单位:电子科学与工程学院 |
管理负责人:杨晓伟 |
共享: 不可用 |
预约须知: |
收费参考标准: |
主要功能: 系统为高真空多功能离子束沉积系统, 可用于开发纳米级的单层及多层功能膜和复合膜-可镀金属、合金、化合物、半导体、介质复合膜等。广泛应用于大专院校、科研院所进行薄膜材料的科研与小批量制备。 |